Películas delgadas de nitruro de aluminio (ALN)


Autores/as

  • Jaime Andrés Pérez Taborda

DOI:

https://doi.org/10.22517/23447214.1291

Resumen

Este documento pretende hacer una revisión de las principales características estructurales y morfológicas del nitruro de aluminio –AlN- específicamente cuando este es depositado por Magnetrón Sputtering ó por medio de Ablación Láser (PLD). Igualmente como influyen los parámetros de crecimiento como presión de gas ambiente (N2), temperatura de sustrato o tiempo de deposición en la calidad y orientación cristalina de las películas delgadas de AlN.

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Publicado

2011-08-30

Cómo citar

Pérez Taborda, J. A. (2011). Películas delgadas de nitruro de aluminio (ALN). Scientia Et Technica, 2(48), 218–223. https://doi.org/10.22517/23447214.1291

Número

Vol. 2 Núm. 48 (2011)

Sección

Ciencias Básicas

Licencia

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