Síntesis de TiN y TiC por la técnica de PAPVD arco pulsado
DOI:
https://doi.org/10.22517/23447214.8191Palabras clave:
PAPVD, TiN, TiC, XRD, XPS.Resumen
Los recubrimientos de TiN y TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en valores de 85-100-115°C. Los recubrimientos se analizaron por medio de Dispersión de Fotoelectrones de Rayos X (XPS)) y Difracción de Rayos X (XRD). A partir del tratamiento de las señales de los espectros angostos de XPS y los patrones de XRD, se determinó la formación de los compuestos TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) con grupo espacial fm-3m correspondiente a las fases FCC de los compuestos sintetizados.
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