Deposición de películas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PACVD


Authors

  • César Orlando Vargas Barrera Universidad Nacional de Colombia
  • Gil Capote Rodríguez Universidad Nacional de Colombia
  • Jesús Manuel Gutiérrez Bernal Universidad Nacional de Colombia

DOI:

https://doi.org/10.22517/23447214.17651

Keywords:

Diamond-like carbon (DLC), Microestructura, PACVD, Propiedades mecánicas

Abstract

Películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase vapor asistida por plasma, utilizando una fuente de corriente directa pulsada asimétrica (DC-pulsada PACVD). Las películas fueron crecidas sobre sustratos de silicio empleando metano como gas precursor y una presión de trabajo de 10 Pa. El estudio fue realizado variando la tensión negativa de autopolarización aplicada al cátodo. Los resultados obtenidos muestran que fue posible obtener recubrimientos protectores de a-C:H con una aceptable tasa de depósito, así como con propiedades atrayentes en cuanto a su microestructura y propiedades mecánicas.

Downloads

Download data is not yet available.

Author Biographies

César Orlando Vargas Barrera, Universidad Nacional de Colombia

Universidad Nacional de Colombia - Bogotá, Dpto. de Física, Grupo de Ciencias de Materiales y Superficies, Carrera 45 N 26-85, Edificio Uriel Gutiérrez, Bogotá D.C., Colombia

Gil Capote Rodríguez, Universidad Nacional de Colombia

Universidad Nacional de Colombia - Bogotá, Dpto. de Física, Grupo de Ciencias de Materiales y Superficies, Carrera 45 N 26-85, Edificio Uriel Gutiérrez, Bogotá D.C., Colombia

Jesús Manuel Gutiérrez Bernal, Universidad Nacional de Colombia

Universidad Nacional de Colombia - Bogotá, Dpto. de Ingeniería Mecánica y Mecatrónica, Grupo de Ciencias de Materiales y Superficies, Carrera 45 N 26-85, Edificio Uriel Gutiérrez, Bogotá D.C., Colombia

Downloads

Published

2018-06-30

How to Cite

Vargas Barrera, C. O., Capote Rodríguez, G., & Gutiérrez Bernal, J. M. (2018). Deposición de películas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PACVD. Scientia Et Technica, 23(2), 293–299. https://doi.org/10.22517/23447214.17651

Issue

Vol. 23 No. 2 (2018)

Section

Ciencias Básicas

License

The undersigned authors declare that the article submitted to the journal Scientia et Technica is an original work and that all its content is free of third-party copyright restrictions or has the corresponding authorizations. Consequently, the authors assume responsibility for any litigation or claim related to intellectual property rights, releasing the Technological University of Pereira and the journal Scientia et Technica from any liability.

If the submitted work is accepted for publication, the authors retain copyright to the article and grant the journal Scientia et Technica the right of first publication, as well as a non-exclusive, perpetual license to reproduce, edit, distribute, display, and publicly communicate the article in any medium or format, including print, electronic, databases, repositories, the Internet, or other scientific dissemination systems. The authors agree that the article will be published in open access and distributed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International License (CC BY-NC-SA 4.0).

The journal Scientia will respect in all cases the moral rights of the authors, in accordance with the provisions of article 30 of Law 23 of 1982 of the Republic of Colombia, recognizing the authorship of the work, the right to integrity and the right of disclosure, which are inalienable and non-waivable.