Crecimiento de películas delgadas de nitruro de carbono por deposicion con láser pulsado

Resumen

Hemos crecido películas delgadas de nitruro de carbono (CNx) mediante el Deposición por Láser Pulsado (DLP), usando como blanco grafito de alta pureza y como substrato silicio. Las películas fueron crecidas en un ambiente de gas de nitrógeno, variando la presión del gas, para dos valores de la fluencia del láser y dos valores de la temperatura del substrato. Estas películas fueron caracterizadas por Microscopia de Fuerza Atómica (AFM) y espectroscopia Raman. La rugosidad de las películas depende tanto de la presión del gas de trabajo como de la temperatura del substrato, sus estructuras son amorfas presentando los picos D y G, típicos de las estructuras tipo fulereno